等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
為保證銅引線框架即銅支架在打線和封塑時(shí)可靠性,提升良率,通常會(huì)使用
等離子清洗機(jī)對銅支架進(jìn)行等離子清洗,其等離子處理的效果受多重因素影響,以往大家關(guān)注會(huì)集中在銅支架自身以及所選用的等離子清洗機(jī)設(shè)備及參數(shù)。但其實(shí)料盒本身的幾方面因素也會(huì)對等離子處理的效果有不小的影響。
1、規(guī)格尺寸
不同規(guī)格尺寸的銅引線框架所對應(yīng)使用的料盒尺寸也是不同的,而料盒尺寸對等離子清洗處理的效果有一定關(guān)系,通常來說,料盒的尺寸越大,等離子體進(jìn)入料盒內(nèi)部的時(shí)間就會(huì)越長,對等離子處理的均勻性及效果有所影響。
2)間距大小
這里所談及的間距主要是指每層銅引線框架之間的距離,間距越小,等離子清洗銅引線框架的效果和均勻性會(huì)相應(yīng)地變差。
3)槽孔特點(diǎn)
將銅引線框架放入料盒進(jìn)行等離子清洗處理,假如四面不開槽,就會(huì)形成遮擋,等離子體很難進(jìn)入,影響處理的效果,與此同時(shí)還需要的是屏蔽效應(yīng)、開槽孔的位置、槽孔大小。
此外,料盒的蓋子是不是要蓋,以及什么時(shí)候蓋,這些都對等離子清洗效果有影響。